DKM-4S晶体双面抛光机研磨机

磨盘直径：270*110*20MM

最大加工：60MM

加工件平面度：0.002MM

游星轮：50MM

游星轮数量：6个

最薄研磨：0.035MM

主机功率：研磨：0.75MM   抛光：1.1MM

磨盘转速：0-60

砂泵功率：0.09

流砂形式：循环或点滴

外形尺寸：650*800*1700MM

重量：560KG

适用于铁氧体，高频晶片，硅片，石英晶体，玻璃，陶瓷，蓝宝石，密封件双面抛光或研磨

主要用途：

  广泛用于LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、陶瓷、硅片、诸片、模具、导光板、不锈钢，光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。

工作原理：

  本平面抛光机为精密研磨抛光设备，被磨、抛材料放于研磨盘上，研磨盘逆时钟转动，修正轮带动工件自转，重力加压的方式对工件施压，工件与研磨盘作相对运转磨擦，来达到研磨抛光目的。

特点：

   1．采用间隔式自动喷液装置，可自由设定喷液间隔时间。

   2.  该抛光机工件加压采用气缸加压的方式，压力可调； 抛光后工件表面光亮度高、无划伤、无料纹、无麻点、不塌边、平面度高等特点。抛光后工件表面粗糙度可达到Ra0.0002；平面度可控制在±0.002mm范围内。

   3．该抛光机采用PLC程控系统，触摸屏操作面板，研磨盘转速与定时可直接在触摸屏上输入。

机器抛光：机器抛光是靠切削质料外貌塑性变形去失被抛光后的凸部而得到腻滑面的抛光要领，一样通常利用油石条、羊毛轮、砂纸，砂带，尼龙轮等，以手工操纵为主，特别零件如反转展转体外形，可利用转台等帮助工具，外貌质量要求高的可接纳超精研抛的要领。超精研抛是接纳磨料特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工外形上，作高速旋转活动。是抛光要领中最高的。光学镜片模具常接纳这种要领。

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